欧美精品无码喷液av高潮,亚洲2022国产成人精品无码区,国产精产国品一二三产区区别,日日av夜夜添久久奶无码

熱誘導(dǎo)化學(xué)氣相沉積 (英語(yǔ):chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導(dǎo)體和金屬材料的保護(hù)涂層的沉積的有力方式，無(wú)論是單晶，多晶，無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過(guò)使用合成前體，涂層非常純凈并目滿(mǎn)足半導(dǎo)體工業(yè)的典型要求，根據(jù)工藝參數(shù)，可以有多種層厚度。